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東京2021年7月15日 /美通社/ — Atonarp 為半導體、醫療保健和製藥行業提供分子感應和診斷產品的領先製造商，今天宣佈推出具有整合等離子體電離源的創新原位半導體計量平台 – Aston。
Aston 是半導體生產工藝計量學的重大變革，其實現了原位分子工藝流程控制，並使現有半導體製造廠能夠更高效運行，從而推動更高的產量。Aston 專為半導體生產而建立，是一個可以取代多種傳統工具的強大平台，並在一系列綜合應用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、電介質、導電蝕刻和沈積、腔室清潔、腔室匹配和消融。
Atonarp 行政總裁、技術總監兼創始人 Prakash Murthy 表示：「在 Aston 的幫助下，我們已經看到在某些應用中單位工藝流程產量增加了 40% 以上，這是一個很大的改進。對於一個典型的半導體製造廠來說，即使整體半導體製造廠產量提高 1%，每年的生產也會增加數千萬美元。」
Murthy 說：「與安裝新生產設備需要長達一年的時間相比，將 Aston 改造為現有的生產工藝工具可以在短短六至八週內提供更高的產量。這將大力幫助製造商提高生產水平，並有助解決目前半導體製造廠產能短缺的問題。」
快速、可操作的端點檢測 (EPD) 是運行半導體工具和半導體製造廠的最高效方式。到目前為止，EPD 無法在許多工藝流程步驟中部署，因為所需的原位感應器無法承受苛刻的工藝流程或腔室清潔化學品，或者會受到冷凝物沉積物的堵塞。從歷史上看，半導體製造廠被迫使用固定時間以確保工藝流程完成。相反，Aston 透過準確檢測工藝流程完成時間來優化生產，包括腔室清潔，這可以將所需的清潔時間減少高達 80%。
Aston 可耐腐蝕性氣體和氣態污染物冷凝物。它比現有解決方案更強大，具有獨立的雙電離源，即一個經典的電子碰撞電離源和一個無燈絲等離子體電離器，可在半導體生產中遇到的惡劣條件下可靠運作。這使得 Aston 能夠在要求苛刻的環境中原位使用，在這些環境中，傳統的電子離子發生器會很快腐蝕和失效。
Aston 提供的服務事件間隔比傳統品質分析器長 100 倍。它包括自行清潔功能，可消除某些工藝流程中存在的冷凝物沉積所導致的積聚。
由於 Aston 產生自己的等離子體，它可以在有或沒有工藝流程等離子體的情況下運作。與需要等離子體源才能運行的光發射光譜計量技術相比，這帶來明顯的優勢，使 Aston 成為 ALD 和某些可能使用弱、脈衝或無等離子體進行處理的金屬沉積工藝的理想選擇。
Aston 還透過提供量化、可操作的實時數據，透過人工智能促進強大的機器學習，為最苛刻的工藝流程應用提供一致的流程改進。此外，由於實時數據統計分析和工藝流程反應室管理的高精準度、靈敏度和可重複性，還可以提高生產線和產品的產量。
Aston 主要用於化學氣相沉積 (CVD) 和蝕刻應用，這兩種應用的年增長率均超過 13%。光譜儀可以在組裝過程中安裝在新的工藝流程反應室中，也可以改裝至已運行的現有工藝流程反應室中。
Aston 還可以與 ATI Korea 開發的智能壓力控制器 Psi 一起使用。在經過為期數月的全面技術可行性評價後，該組合解決方案最近被三星購買，用於高級過程控制應用。
Aston 現在可以透過直接購買或 Atonarp 的全球合作夥伴網絡進行評價和訂購。
關於 Atonarp
Atonarp 正在引領生命科學、製藥和半導體市場的分子感應和診斷的數碼轉型。Atonarp 產品由統一的軟件平台、光學和質譜儀技術的突破性創新提供支援，可提供實時、可操作、全面的分子分析數據。在半導體、生命科學和健康診斷儀器的開發和商業化方面的世界級專家團隊領導下，Atonarp 在日本、美國和印度開展業務。如欲了解更多資訊，請瀏覽 https://atonarp.com。
圖片 – https://mma.prnasia.com/media2/1573281/aston_01.jpg?p=medium600
標誌 – https://mma.prnasia.com/media2/1573283/Antonarp_Logotype_Black_Logo.jpg?p=medium600
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